AGN-MC30膜专用酸性清洗剂

AGN-MC30膜专用酸性清洗剂

       BWA MC30是一种低pH的配方,特别设计专用于清除金属氢氧化物、碳酸钙和其它类似的附着在聚酰胺、聚砜和薄膜组分膜表面的垢。

AGN-MC11膜专用碱性清洗剂

       BWA MC11是一种高pH的配方,特别设计专用于清除有机物,污泥和其它类似的附着在聚酰胺、聚砜和薄膜组分膜表面的微粒。这种高效能的清洗剂有如下特点:H10.O土0.5可调;在室温下高效;不含表面活性剂，易冲洗;含洗涤剂、蝥合剂和pH缓冲剂。

       BWA MC1 1适用于所有聚酰胺、聚砜和薄膜组分的膜。它适，用于从15度到膜生产商所推荐的高温度。标准的稀释比是25克BWA MC11溶于1升水中。